而这中间，最最核心的就是光刻机。”
曹阳说到这里，眼神一阵失神。
想起来也真的很令人唏嘘，因为前世一直到2021年，我们国家因为华为制裁事件，整个芯片的短板被暴露出来，究其原因就是没有足够先进的光刻机。
这玩意儿，对于技术要求非常高。
EUV光刻机虽然精密复杂，但是它关键的核心技术却只有三个，分别是：光源、双工件台系统和光学镜头。
首先，在光源方面。
光刻机需要产生稳定的极紫外线，把光波长降低到121纳米至10纳米区间。
更短的光波，能够制造出来的芯片纳米级数就越小，芯片的性能就越高。
其次，在双工件台系统方面。
ASML公司在双工作台系统领域一直垄断，因为对机器的精密度和复杂性要求很高。
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